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分析硅片电阻率、箔层方块电阻的国际标准测量方法中对探针头的规范要求,并根据这些要求,相应研制了做仲裁测量或校验用的小游移探针头.
仲裁测量用四探针头的探讨与研制
【摘 要】
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分析硅片电阻率、箔层方块电阻的国际标准测量方法中对探针头的规范要求,并根据这些要求,相应研制了做仲裁测量或校验用的小游移探针头.
【机 构】
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广州市昆德科技有限公司(广州)
【出 处】
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第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
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2003年期
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