【摘 要】
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采用反应射频磁控溅射在Si(100)基片上制备了不同微结构的铝掺杂氧化锆薄膜和铝钛共掺杂氧化锆薄膜.利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线衍射仪(XRD)和色散X射线(EDX)特
【机 构】
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大连理工大学 物理与光电工程学院,大连 116023
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采用反应射频磁控溅射在Si(100)基片上制备了不同微结构的铝掺杂氧化锆薄膜和铝钛共掺杂氧化锆薄膜.利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线衍射仪(XRD)和色散X射线(EDX)特征能谱研究了氧化锆基薄膜(Zr-Al-O和Zr-Al-Ti-O)微结构和热稳定性。研究结果显示:在Zr-Al-O二元系薄膜中不同的Al掺入量对薄膜的微结构有较大影响,随着薄膜中Al/Zr原子含量比的增加,薄膜微结构经历从口α-ZrO2(未掺杂)到t-(Zr,Al)O2相(Al/Zr=1/4)再到α-(Zr,Al)O2(Al/Zr=4/5)的变化;而在铝钛共掺杂氧化锆薄膜中薄膜非晶形成能力得到提高,通过优化工艺参数,薄膜中掺入合适的Al,Ti可以获得了具有均质的非晶态薄膜,其抗结晶化温度不低于850℃.
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