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硅表面减反射结构降低光学损失—表面制绒单晶硅制绒多晶硅制绒硅表面减反射结构两次反射折射率渐变单晶无金属多晶有金属工艺切换复杂倒金字塔制绒理想结构:同时适用于单晶和多晶低反射,易钝化,低成本。
一步法黑硅制绒工艺新进展
【摘 要】
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硅表面减反射结构降低光学损失—表面制绒单晶硅制绒多晶硅制绒硅表面减反射结构两次反射折射率渐变单晶无金属多晶有金属工艺切换复杂倒金字塔制绒理想结构:同时适用于单晶和多晶低反射,易钝化,低成本。
【机 构】
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中国科学院物理研究所 北京普扬科技有限公司 松山湖材料实验室
【出 处】
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2018 年第十四届中国太阳级硅及光伏发电研讨会
【发表日期】
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2018年11期
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