工频电磁场暴露对胚胎鼠眼晶状体的发育缺乏影响

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<正>目的:研究工频电磁场暴露是否对胚胎鼠眼晶状体的发育产生影响。方法:采用频率50 Hz、磁通密度0 mT、1.5 mT、4.5 mT 的电磁场,在 BALB/c 小鼠孕0~18天辐照3小时/天,孕19天取胚胎鼠眼晶状体,每组保留1只孕鼠至幼鼠出生后2周,显微镜下观察各组晶状体及出生后2周幼鼠晶状体的透明度,电镜观察胚胎鼠眼晶状体上皮细胞的超微结构,各组胚胎鼠眼晶状体行水溶性蛋白、水不溶性蛋白测定,real-time PCR 检测各组胚胎鼠眼晶状体 Pax6、Soxl、Proxl、c-maf mRNA 表达水平, ANOVA 分析。结果:同0 mT 电磁场暴露后的胚胎鼠眼晶状体相比,1.5 mT、4.5 mT 组胚胎鼠眼晶状体透明,各组出生后2周幼鼠晶状体均透明。同0 mT 组相比,1.5 mT、4.5 mT 组胚胎鼠眼晶状体上皮细胞超微结构无明显改变,水不溶性蛋白/总蛋白比值各组差异无显著性(p>0.05),各组 Pax6、Soxl、 Proxl、c-mar mRNA 表达水平差异无显著性(p>0.05)。结论:1.5 mT、4.5 mT 工频电磁场暴露未能对胎鼠眼晶状体的发育产生影响。
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