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根据锌合金熔点低的特点，主要从膜层的相结构、膜层的表面形貌以及膜层的附着力等三方面，深入地研究了沉积TiN装饰膜的工艺。文中指出：弧电流40A、氮气分压2.5-4Pa、负偏压300～350V、基片温度150～250℃是比较好的沉积工艺。
低熔点锌铝合金表面沉积TiN装饰膜层的工艺研究
【摘 要】
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根据锌合金熔点低的特点，主要从膜层的相结构、膜层的表面形貌以及膜层的附着力等三方面，深入地研究了沉积TiN装饰膜的工艺。文中指出：弧电流40A、氮气分压2.5-4Pa、负偏压300～35
【机 构】
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西北有色金属研究院
【出 处】
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1999年第二届表面工程国际会议
【发表日期】
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1999年期
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