【摘 要】
：
本文采用氧化铝磨粒砂带，利用正交试验方法探究砂带粒度、砂带线速度、进给速度和磨削压力等磨削参数对GH4169表面粗糙度的影响.并分析原因。同时得到的试验样本也为线性回归模型的建立和BP神经网络预测提供依据。从线性回归预测模型式可知:砂带磨削GH4169时，砂带粒度与砂带线速度对表面粗糙度的影响规律一致，即表面粗糙度随砂带粒度的增加、砂带线速度的增加呈现下降的趋势，而进给速度和磨削压力对表面粗糙度的
【机 构】
：
西安航空动力股份有限公司 西安710021 重庆大学机械传动国家重点试验室 重庆400030
论文部分内容阅读
本文采用氧化铝磨粒砂带，利用正交试验方法探究砂带粒度、砂带线速度、进给速度和磨削压力等磨削参数对GH4169表面粗糙度的影响.并分析原因。同时得到的试验样本也为线性回归模型的建立和BP神经网络预测提供依据。从线性回归预测模型式可知:砂带磨削GH4169时，砂带粒度与砂带线速度对表面粗糙度的影响规律一致，即表面粗糙度随砂带粒度的增加、砂带线速度的增加呈现下降的趋势，而进给速度和磨削压力对表面粗糙度的影响规律一致，即表面粗糙度随工件进给速度的增加、磨削压力的增加呈现增加的趋势。
其他文献
对目前国内外碳纤维原丝油剂的作用与机理、主要系列、多功能油剂的组成与复配方式、工业生产中快速评价方法等方面进行了综述,讨论了碳纤维原丝油剂研发中存在的问题,明确了未来原丝油剂的发展方向.
将不同掺量的碳纳米纤维(CNFs)均匀分散在环氧树脂中,并通过手糊法制作CNFs/碳纤维增强复合材料(CFRP)层合板.对该复合材料进行单调拉伸、等幅循环拉伸和递增循环拉伸试验,并在加载过程中采用两电极法实时监测复合材料的电阻变化,以此来反映该复合材料的自感知能力.结果表明,加入CNFs后,由于环氧树脂基体中导电网络的存在,CNFs/CFRP复合材料电阻的变化率在三种加载方式下均有提高,即对应变和
凝胶注模体系中单体含量对成型后素坯和烧结后陶瓷的性能都有十分重要的影响.以炭黑、碳化硅为主要原料,采用凝胶注模成型渗硅烧结的工艺制备Si/SiC复相陶瓷,研究单体含量在浆料配制、干燥成型、渗硅烧结等过程中产生的影响.研究结果表明,适当提高凝胶体系中的单体含量有助于减少干燥收缩,提高素坯及渗硅后陶瓷强度及致密度等;而单体含量过高则会导致浆料粘度增加、材料性能下降.
土石坝深厚覆盖层坝基透水性强,存在漏水量大以及发生管涌和流土等渗透稳定问题,需采取防渗措施.某高土石坝坝基处于深厚覆盖层处,以防渗性能为指标对防渗墙数量、厚度和布置形式进行初步设计,应用渗流和有限元分析软件对设计方案进行比较分析,优选较好设计方案.选取混合型两道混凝土防渗墙作为防渗体,并且两道防渗墙采用副防渗墙设于主防渗墙上游的一主一副布置格局,两道防渗墙厚度分别为1.4m和1.2m,两墙之间净距
玻璃基板技术的发展动力，主要来自于显示器件技术发展的需求(包括高世代化、高分辨率化、LTPS/IGZO制造工艺特点等)和自身提高线体寿命的需要。这些促使基板玻璃产品目前和在今后一段时期内，主要向大尺寸与轻薄化、高热稳定性和降低制造成本等方向发展。为了改善挠度问题，需要改进基板玻璃组份设计，提升玻璃强度、降低玻璃密度。要想获得较好的热稳定性，要求基板玻璃有更高的应变点温度、更低的热膨胀率和更好的均一
近年来,随着玻璃品种和性能的改进以及对环保的要求越来越严格,新型无毒环保、澄清效果好的复合澄清剂成为当前的研究热点之一.针对钠钙硅平板玻璃,借助高温熔化原位观测和记录系统(HTMOS),本文探索了多元复合澄清剂对玻璃熔体中气泡的产生、长大和排除过程的影响.研究结果如下:借助HTMOS装置,原位观测到了Na2SO4与C、CeO2复合后的梯级澄清效果.结合相关文献认为,在1300-1400℃之间应是C
采用熔融法制备了MgO-Al2O3-SiO2-ZnO-TiO2系微晶玻璃.利用差示扫描量热分析(DSC)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)和维氏硬度计等测试手段研究了不同摩尔百分比TiO2对玻璃析晶、物相组成、析晶显微结构、密度、吸水率、化学稳定性及维氏硬度的影响.结果表明:随TiO2的增加,玻璃析晶峰的强度先增强后减弱,玻璃转变温度和析晶温度均降低;当TiO2摩尔百分比超过5
针对液晶玻璃对玻璃熔融质量苛刻的要求,通过液晶窑炉冷却系统变频和PLC程序控制,实施窑壁冷却,在满足高温度熔融时的条件下减少窑壁侵蚀;优化冷却系统开启方案,有效减少窑壁砖裂纹的产生,延长窑炉使用寿命.通过对窑炉碹顶和胸墙的保温,实施温度和压力稳定控制,有效降低玻璃窑炉能耗.
本文基于量纲分析理论，建立了径向模式下磨料水射流车削氧化铝陶瓷切除深度的预测模型。量纲分析的结果对应与30组实验结果进行对比。量纲分析结果的平均相对误差小于巧％。表明已建立的模型能够定性和定量地预测切除深度实验值。这必将为解决磨料水射流径向模式车削脆性材料难以控制切除深度问题提供一种较好的参考方法。
金刚石材料具有优异的光学性能，虽然SiC基CVD金刚石薄膜中不可避免地存在一定缺陷，会影响其光学应用，但是通过薄膜类型优选、工艺优化制备的高质量SiC基金刚石薄膜仍有望成为光学镜面的一种重要的备选材料。采用纯机械抛光的方法很难完成SiC基CVD金刚石薄膜表面、尤其是微米金刚石表面的高质量精密抛光，因此有必要结合目前已成熟的或正在研究中的各类新型抛光技术，包括SiC光学反射镜面抛光加工中常用的各类技