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本文对GaAs(001)衬底上分子束外延生长的立方GaN的热稳定性做了研究,研究表明随着退火温度的提高样品表面粗糙度减小.
立方GaN外延层的热稳定性研究
【摘 要】
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本文对GaAs(001)衬底上分子束外延生长的立方GaN的热稳定性做了研究,研究表明随着退火温度的提高样品表面粗糙度减小.
【机 构】
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中国科学院物理研究所
【出 处】
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第六届全国分子束外延学术会议
【发表日期】
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2001年6期
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