VCP线镀层均匀性改善

来源 :2009春季国际PCB技术/信息论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cbir
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以公司新引进的VCP电镀线为研究对象,通过试验对比及生产数据搜集,发现在优化液位高度、挂架间距、夹板深度后,合适的底屏、边屏位置,可有效改善垂直方向板边的电力线分布,减少“边缘效应”影响,从而提高镀层均匀性。试验结果表明:底屏及边屏分别移动2mm和20mm,对板底部铜厚与均值差均会有约4%的影响;同时优化底屏、边屏后,可将整板CoV由平均7.0%提至5.1%。
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