电子束双偏转扫描系统的设计

来源 :'99全国荷电粒子源粒子束学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dfl_peng
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
与透镜后偏转系统相比较,透镜前双偏转系统具有可采用较小的工作距离和容易实现电子束垂直着靶等优点,而且通过在两偏转线圈之间设置一个转角可以降低复合磁聚焦偏转系统象差。该文对系统的结构和电气参数对电子光学特性的影响进行了计算机模拟,从中找出了最佳的工作参数,并提出了一种能较好地满足计算精度要求的偏转器结构设计。
其他文献
会议
本文介绍了焊接气孔产生的原因,根据电子束非穿透焊缝根部气孔及穿透焊缝内部气孔的形成机理,提出了减少气孔的焊接工艺措施。
该文较详细地介绍了低气压金属锥筒对强相对性电子束进行聚焦的物理过程和数学处理方法。提供了少量的数值模拟和解析的数据,浅淡了预脉冲的影响。(本刊录)
会议
研制了薄膜平行板透射电离室,研究了透射电离室的特性。透射电离室测量静电加速器电子束在铝中的透射分布,得到不同高压下电子束在铝中的外推射程,进而确定电子束能量。