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结合电子束光刻超微细图形加工的能力和光学光刻高生产效率的优势，进行新的器件和集成电路开发是一个新的研究方向。二者混合使用与匹配的最关键问题是图形套准问题，通过实验我们已获得初步成果。
电子束光刻和光学光刻混合使用与匹配
【摘 要】
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结合电子束光刻超微细图形加工的能力和光学光刻高生产效率的优势，进行新的器件和集成电路开发是一个新的研究方向。二者混合使用与匹配的最关键问题是图形套准问题，通过实验我
【机 构】
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科学院微电子中心(北京)
【出 处】
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第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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1999年期
其他文献
该文提出了同轴波导大回旋半径电子注来用纵向静磁场与径向静电场聚焦，实现回旋潘尼管的设想。用扰动法严格求解了在高频场（TEmn模或TMmn模）作用下，电子的三维运动。详细地分析了