【摘 要】
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采用分子自组装成膜技术、脉冲磁过滤阴极真空弧源沉积技术(FCVA)在单晶硅基体上制备了纳米级复合膜.通过X射线光电子能谱(XPS)和激光拉曼光谱(Raman)表征薄膜的成份和结构,
【机 构】
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江苏大学微纳米科学技术中心,江苏,镇江,212013
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采用分子自组装成膜技术、脉冲磁过滤阴极真空弧源沉积技术(FCVA)在单晶硅基体上制备了纳米级复合膜.通过X射线光电子能谱(XPS)和激光拉曼光谱(Raman)表征薄膜的成份和结构,应用原子力显微镜(AFM)分析了薄膜表面形貌和粗糙度,并用UMT型微摩擦磨损试验机考察了薄膜在不同载荷下的摩擦性能.结果表明,通过自组装及FCVA方法可以在基体上获得完备均一平滑的分子膜,成膜后的摩擦系数较单晶硅有了明显的降低,但是在表面制备DLC膜的复合膜中,由于弹性体长链高分子结构的存在导致表面存在一定的微凸起,进而造成含弹性体的薄膜摩擦系数偏大.
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