【摘 要】
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采用真空热蒸发和电子束蒸发方法，制备了Al和MgF2多层滤光膜，研究了真空退火工艺对多层滤光膜光谱、形貌特性和环境稳定性的影响。结果表明，经150℃、300℃真空退火后，滤光膜表面平整度提高，峰值透射率升高，半宽度增大,滤光膜可见光波段的抑制性变差;将未退火样品、经150℃、300℃真空退火样品分别放置14天，比较光谱发现，经150℃真空退火的滤光膜环境稳定性最好。
【机 构】
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同济大学，精密光学工控技术研究所，上海 200092
【出 处】
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2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会
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采用真空热蒸发和电子束蒸发方法，制备了Al和MgF2多层滤光膜，研究了真空退火工艺对多层滤光膜光谱、形貌特性和环境稳定性的影响。结果表明，经150℃、300℃真空退火后，滤光膜表面平整度提高，峰值透射率升高，半宽度增大,滤光膜可见光波段的抑制性变差;将未退火样品、经150℃、300℃真空退火样品分别放置14天，比较光谱发现，经150℃真空退火的滤光膜环境稳定性最好。
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