【摘 要】
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氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀设备,以不同的沉积工艺在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积了氮化铬陶瓷涂层,研究了基体上脉冲偏压的施加及沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的影响规律.探讨了偏压及N2分压在涂层沉积中的作用机制.
【机 构】
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江西科技师范学院,江西省材料表面工程重点实验室,江西,南昌,330013;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016
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氮化铬陶瓷涂层具有低的磨擦系数、高的硬度、良好的热稳定性和抗腐蚀性,被认为是最有希望的TiN替代材料之一.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀设备,以不同的沉积工艺在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢基体上沉积了氮化铬陶瓷涂层,研究了基体上脉冲偏压的施加及沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的影响规律.探讨了偏压及N2分压在涂层沉积中的作用机制.
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