【摘 要】
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用化学腐蚀方法制作多晶硅片绒面,利用SEM测试分析化学腐蚀后多晶硅片表面形貌,通过反射谱的测试,分析了多晶硅片表面陷光效果.结果表明酸溶液腐蚀的硅片表面相对平整,有均匀的腐蚀抗,反射率很小,在没有任何减反射膜的情况下,在500-1000nm波长范围内,反射率在16﹪以下,表面陷光效果较好.而用碱溶液和双织构腐蚀方法得到的多晶硅表面陷光作用都不理想,反射率高于酸溶液腐蚀的硅片.
【机 构】
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上海交通大学物理系太阳能研究所(上海)
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用化学腐蚀方法制作多晶硅片绒面,利用SEM测试分析化学腐蚀后多晶硅片表面形貌,通过反射谱的测试,分析了多晶硅片表面陷光效果.结果表明酸溶液腐蚀的硅片表面相对平整,有均匀的腐蚀抗,反射率很小,在没有任何减反射膜的情况下,在500-1000nm波长范围内,反射率在16﹪以下,表面陷光效果较好.而用碱溶液和双织构腐蚀方法得到的多晶硅表面陷光作用都不理想,反射率高于酸溶液腐蚀的硅片.
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