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本文通过对磁粉模型的计算,对NdFeB粘结磁体中的粘结剂用量进行了分析,讨论了粘结剂的最佳使用量,并通过实验进行了验证,发现由于制备过程中磁体不可能达到完全致密化,粘结剂的实际使用量略高于理论值.
NdFeB粘结磁体中粘结剂的用量分析
【摘 要】
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本文通过对磁粉模型的计算,对NdFeB粘结磁体中的粘结剂用量进行了分析,讨论了粘结剂的最佳使用量,并通过实验进行了验证,发现由于制备过程中磁体不可能达到完全致密化,粘结剂的实际使用量略高于理论值.
【机 构】
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国防科学技术大学(湖南长沙)
【出 处】
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第十一届全国磁学和磁性材料会议
【发表日期】
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2002年12期
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本研究利用射频溅射法在Si(100)衬底上制备了纯六方相(h-BN)和以正交相(E-BN)为主相的两组氮化硼薄膜，对其进行600～1000℃的N2保护退火，通过傅里叶变换红外谱(FTIR)分析,发现hBN-cBN-hBN的可逆相变。h-BN向立方氮化硼(c-BN)的最佳退火诱导相变温度为900℃，在此温度下,制备出了立方相含量接近100％的氮化硼薄膜,并且对相变路径与机理进行了探索性的讨论。
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