雾状缺陷相关论文
掩膜版是半导体生产的重要关键材料之一,掩膜版在自身生产去除光刻胶和清洗工艺时或使用时,会产生雾状缺陷,这些雾状缺陷在曝光时......
在光刻波长进入到193 nm之后,雾状缺陷（haze defect）越发严重,研究发现环境是雾状缺陷产生的重要原因。目前晶圆厂主要采用改善掩模......
