间歇渗硼相关硕士博士期刊学术论文

对新型渗硼剂Ｂ（Ｃ２Ｈ５）３的渗硼工艺进行了研究。结果表明，在正常渗硼工艺条件下，基体表面没有形成连续致密的渗硼层，而是了一层数μｍ厚的硼碳层；在......