脉冲直流磁控溅射相关论文
采用非对称双极性脉冲直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了Nb2O5薄膜,重点研究了O2流量和溅射功率对薄膜结构、成分、形貌和光学性......
为探究不同磁控溅射模式的技术特点,优化涂层制备工艺,采用脉冲直流磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射以及它们的复合技术分别制备CrN......
目的通过掺杂适量Al元素来固溶强化Cr N薄膜,从而提高薄膜的抗氧化性能和热稳定性。方法采用高功率脉冲磁控溅射和脉冲直流磁控溅......
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深振荡磁控溅射(Deep Oscillation Magnetron Sputtering, DOMS)是一种新型的高功率脉冲磁控溅射技术。DOMS产生多组调制电压振荡......
采用闭合场非平衡脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜,利用EPMA、XPS、GIXRD、FESEM和HRTEM表征了薄膜的成分与结构,纳米压痕仪、Rockwe......
目的利用高功率脉冲磁控溅射技术离化率高、溅射离子能量高等优点,在Cr-Al-N涂层中添加Si元素研制a-Si3N4包裹nc-(Cr,Al)N的纳米复......