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等离子体辅助固体刻蚀相关论文

干法刻蚀图形化CVD金刚石膜研究进展

CVD金刚石膜因其极高的强度和耐磨特性在微机电系统（MEMS）领域具有极好的应用前景，然而其极高的硬度和化学惰性又使其很难被加工成型，......

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