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等离子体不均匀相关论文
反应离子刻蚀工艺中的充电效应
本文阐述了反应离子刻蚀(RIE)工艺过程中充电效应产生的机理,认为它是由等离子体分布的不均匀性引起的,推导了等离子体充 流的表达式,并根......
期刊
反应离子刻蚀
等离子体不均匀
充电效应
RIE
plasma nonuniformity
charging effect
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