磁控溅射源相关论文
介绍一种不同于传统的磁场设计的新型的两个相邻旋转磁场形成的相连磁域的设计。此相连磁域具有改变基材等离子状态、更好控制......
为了提高靶材利用率，将磁约束原理应用在磁控溅射技术中，设计了一款直流矩形平面磁控溅射源．测量了磁约束磁控溅射源原理样机靶面磁场......
为了提高靶材的利用率,将磁约束原理应用于磁控溅射技术中.采用直流矩形平面磁控溅射源,测量了磁约束磁控溅射源稳定工作状态下的......
