电子束曝光系统相关论文
本研究用扫描电镜（ＳＥＭ）电子束曝光技术和相应的计算机联机成像程序，在ＩｎＧａＡｓＰ／ＩｎＰ液相外延片上形成电子束光刻图形，并采用选择腐蚀等技术，由ＫＹＫＹ－１０００ＢＳＥＭ并附Ｘ射线能......
一、前言十多年前，我们从美国LFE公司引进了一台铬版等离子刻蚀机，它采用的主要刻蚀气体是三氯乙烯。作为设备的一个附件，三氯乙烯罐......
电子束扫描系统决定了电子束机的动态特性，本文以电子束偏转磁场的畸变为目标对其参量进行非劣解中找出贴近于理想值的最优解
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随着互联网、宽带综合业务数字网的高速发展，要求光纤通信系统能够提供超高速、大容量的信息传输．波分复用技术可以提高系统传输速率......
JEOL JBX- 5 0 0 0 L S是矢量扫描的电子束曝光机 .系统采用 L a B6 灯丝 ,可以工作在 2 5 k V和 5 0 k V的加速电压下 .对该系统......
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据澳大利亚莫纳什大学网站报道,澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级......
近地宇宙图天文学家绘制出最详细的近地宇宙图,距地球20亿光年范围内的上万个星系都能反映在这幅全新的宇宙图上。“懂”指令的机......
上海读者朱逸伦:我在http://news.onlinedown.net/info/10457-1.htm看到几幅图片,这是真的吗,还是像《透明LCD》一样用Photoshop做......
一、引言近几年来,随着电子器件向高频、高集成度方向发展,要求制作最细线条为微米、亚微米级微细图形的掩膜板,普通光学老工艺碰......
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在用电子束曝光系统制造大规模集成电路工艺中,电子束场的线性与非线性畸变对曝光系统的对准精度有着很大影响。本文介绍的计算机......
一、引言对于任何一项发展中的微细加工技术,如果要付诸实用,不但它要有高的分辨本领和合算的经济效益,而且还要解决与其作图精度......
生产高质量、精细图形集成电路掩膜的电子束曝光系统(EBEs)已经证明是安用的和经济的。它也能在涂有抗蚀剂的硅片上直接曝光图形。......
用电子束系统在涂有抗蚀剂的半导体晶片上直接曝制电路图形,在集成电路的生产中得到了日益广泛的使用。这种系统以其固有的绘制图......
电子束曝光时,由于抗蚀剂层和衬底中电子散射的作用,使抗蚀剂产生不希望的曝光,这种现象就是邻近效应。它导致图形特征尺寸与设计......
本文讨论微米及亚微米级电子束曝光系统中各种透镜像差对合成透镜弥散斑的影响,分析了最佳电子束电流与末级透镜束会聚半角的关系......
本文从实用于大规模集成电路制备的观点出发,对紫外线光刻和电子束光刻图形制作工艺中的问题进行了综述。在紫外线光刻方面,对接触......
一、前言从六十年代末以来,电子束曝光设备在技术上的进展是十分显著的。由于电子束曝光设备具有高分辨率、高精度和使用灵活的特......
根据已经发表的文献,本节介绍已经投入使用并代表1979年初水平的几台电子束曝光机的主要特征和性能。这些机器包括一台专门设计用......
作者曾参加了第三十届国际电子束、离子束、光子束年会,在此介绍了该年会电子束学组所提出的一些主要观点。本文讨论了与计算机控......
本文给出了进行等离子腐蚀铬掩模版图形的一个典型工艺条件,并对在此工艺条件下腐蚀的铬掩模图形的实验结果进行分析,给出了等离子......
本文报道了Ｄ波段单片振荡－倍频链的设计、ＭＭＩＣ制作及测试。该电路用亚微米（０．１μｍ）ＩｎＡｌＡｓ／ＩｎＧａＡｓＨＥＭＴ制造，且芯片上有稳定偏压电路，一个集成的Ｅ场探针书信号直接辐射......
本文介绍了我校研制的矢量扫描电子束曝光机中，扫描场非正交性畸变的校正情况，该机器的偏转系统为内透镜双磁偏转方式。
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本文介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案,该方案具有标记检测和曝光扫描两项基本功能,同时增加了圆形和圆环图形的......
与传统的直写式电子束曝光机相比,高能电子束曝光系统由于减小了入射电子的前向散射,在理论上应该具有更高的分辨率.本文在阐述了......
介绍缩小投影电子束曝光系统中的标记信号检测及对准的方法与步骤.掩模版上的标记经电子束照射后成像于硅片上,使此标记像扫描硅片......
本文介绍了一种新的电子束曝光系统图形发生器,把目前现有的图形发生器的功能移植至数字信号处理器中,增加了圆形和圆环图形的处理......
大规模集成电路可变矩形电子束曝光机对温度、微束流等项测量提出了较高的要求。因此,我们已研制了分辨率为0.05℃的精密温度测量......
电工所九室一组研制的微电流测量仪是针对扫描电子束曝光系统而设计的,是用于大规模集成电路制版曝光前的电子束流的检测,也可用......
电子束曝光技术是微纳加工技术研究与开发应用的关键技术，在微电子、微光学、微机械等微纳米加工领域有着广泛的应用前景。实现该技......
JEOL JBX-5000LS是矢量扫描的电子束曝光机.系统采用LaB6灯丝,可以工作在25kV和50kV的加速电压下.对该系统的分辨率、稳定性、场拼......
为了加工具有高深宽比的器件,采用能量连续递减近似模型,运用蒙特卡罗方法分析高能电子束曝光领域的电子散射轨迹及背散射电子对曝......
澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可标记纳米级的物体，还可在比人发直径小1万倍的......
介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案，该方案以DSP处理器为核心，通过USB接口与上位机通讯，具有标记检测和曝光扫描两项......
纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.我们使用VB5电子束曝光系统,经过工......
澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可标记纳米级的物体，还可在比人发直径小1万倍的......
电子束曝光系统中采用了多项校正技术，才得以使之渐致完善，成为微细加工领域中一种非常重要的工艺设备。本文根要地介绍了这些校正技......
据澳大利亚莫纳什大学网站报道，澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可标记纳米级的......
本文介绍了一种先进的新型背散射电子探测器。随着电子束曝光机的发展,特别是加速电压高的时候,对背散射电子探测器的性能要求就愈......
本文叙述了应用于可变矩形电子束曝光系统中的几种信号检测和处理技术以及在调试过程中的应用，简单介绍了系统工作时信号间的相互关......
