显影模型相关论文
根据扫描干涉场曝光的特点,针对光刻胶层内曝光量的驻波效应,建立了动态曝光模型。基于快速推进法建立了显影模型,得到了光栅掩模......
采用编码灰阶掩模制作了折射微透镜，考虑透过掩模光强分布和抗蚀剂成像过程的非线性影响，以掩模设计进行了修正，基于部分相干光理论和......
本论文工作主要研究全息光栅的制作工艺。为了降低对制作者个人经验的依赖并提高工艺的可控性，对曝光和显影分别建立了的实时监测技......
在特定的工艺条件下 ,光刻胶的非线性效应非常显著 ;合理地利用非线性效应 ,能够制作出近似矩形的全息光栅掩模。为了分析清楚非线......
