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控制晶体生长相关论文
4英寸碳化硅晶体生长温场控制研究
温度场对于碳化硅(SiC)晶体的生长至关重要[1-2],其中轴向温度场主要控制晶体生长的速度,径向温度场则主要控制晶体的多型和应力......
会议
碳化硅晶体生长
温度场
控制晶体生长
高质量
应力分布
实验分析
生长过程
保温设计
KDP晶体过饱和度实时控制生长和改善晶体的均匀性
如何提高KDP晶体的质量是该论文的主要工作内容.该论文拟定建立用过饱和度直接控制晶体生长的方法.根据电磁感应的原理,设计并制造......
学位
KDP晶体
饱和度
控制晶体生长
变压器型电导仪
多磷酸盐
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