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150nm成像的0.7NA 远紫外步进扫描系统
为了拓展KrF光刻在小于180nm的SIA设计规则技术阶段的制造能力,需要一种最大0.7NA透镜的远紫外步进扫描曝光系统来提供足够的工艺......
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基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术
套刻性能是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一。提出了一种基于镜像焦面检测对准标记(简称“镜像焦面检测对准标记......
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