外延层缺陷相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

外延层缺陷相关论文

4英寸硅外延片生产中外延层缺陷的分析与控制

硅外延过程中常引入各种宏观和微观缺陷.本文以4英寸硅片为研究对象,探讨了外延层缺陷的形态、成因及其减少的方法.......

会议

英寸硅外延片生产外延层缺陷研究对象微观缺陷形态硅片方法成因

GaAs晶体缺陷与外延层缺陷显示研究

GaAs衬底与外延层质量，尤其是晶体的完整性严重影响着以其为材料的半导体器件的性能，而超声AB的腐蚀法是一种能准确快速的显示GaAs体......

期刊

外延层缺陷检测方法超声AB腐蚀法砷化镓晶体半导体材料晶体缺陷

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