以单分散SiO2微球为基元，在75％～80％湿度、30～45℃恒温密闭烘箱中垂直快速纽装opal模板；以Zn（NO3）2（0．035mol／L）、TAA乙醇溶液（0．05mol／L）为前体，通过......

摸索了利用PECVD方法制备嵌埋于硅槽中Si反Opal结构的工艺条件，探索性研究了射频功率、气体流量、反应室压力、沉积时间和Opal基底......