W-C-Ti涂层相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

W-C-Ti涂层相关论文

添加少量Ni,Ti,C对溅射钨涂层氧化行为的影响

葡萄牙的科研人员采用反应磁控溅射工艺进行研究，具体工艺多数为：功率密度１０Ｗ／ｃｍ２，负偏压为７０Ｖ，靶材分别用Ｗ、Ｗ－１０％Ｔｉ、Ｗ－１０％Ｎｉ（质量百分比），ＣＨ４／Ａｒ分压比为１／５，真空室压力为１０－４Ｐａ．涂......

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W-C-Ti涂层磁控反应溅射氧化

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