用工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积（PCVD）设备，在高速钢（W18Cr4V）基材表面沉积新型四元Ti-Si-C-N复合超硬薄膜。结果表明：Ti-Si-C-N......

用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法,在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti-Si-C-N薄膜材料.研究了不同SiCl4流量对薄膜成......

用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）方法在高速钢基体上沉积出新型Ti—Si—C—N超硬薄膜．Ti—Si—C—N薄膜为纳米晶／非品复合结......

用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）方法在高速钢基体上沉积出Ti-Si-C-N超硬薄膜．XRD，XPS及HRTEM等测试表明，薄膜由纳米晶／非晶复......