Schwarzschild物镜相关论文
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光......
由两个球面反射镜组成的Schwarzschild系统具有无三阶球差、慧差、像散,以及无色差的优秀光学特性,广泛应用于天文观测领域。利用......
极紫外投影光刻(EUVL,Extreme Ultraviolet Lithography)技术作为下一代光刻技术中最佳候选技术,建立于可见/紫外光学光刻的诸多关键......
为了实现接近衍射极限的分辨率,工作在极紫外波段的Schwarzschild物镜要求其光学元件的面形精度达到约1nm(RMS值);而在物镜的装配过程......
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