采用磁增强反应离子刻蚀(MERIE)技术，在射频功率为80 W、总气体流量速率为50 sccm 和本底真空度优于0.1 Pa等工艺参数保持不变的情......

采用磁增强反应离子刻蚀（ＭＥＲＩＥ）工艺获得了铁电ＰｂＺｒ０．５３Ｔｉ０．４７Ｏ３（ＰＺＴ）薄膜的微细图形。研究了用ＣＨＦ３气体在不同射频功率和气体流量下ＰＺＴ薄膜，Ｐｔ和ＡＺ１４５０Ｊ光刻胶的刻蚀速率以及刻蚀......