LaNiO薄膜材料在动态气氛下(1.67﹪H/N和1.67﹪O/N 2种气氛中每隔30s交替变化1次)经过800℃,30min预处理得到La-Ni-O薄膜材料.薄膜采用......

采用组合靶,利用射频磁控溅射在260℃的(111)Si片上面制备了不同Ni、La含量比的La-Ni-O薄膜.测试分析结果表明,在La含量较高时,薄......