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Ge填埋层应力诱导晶化多晶Si薄膜晶化特性研究
多晶Si薄膜同时具有单晶Si高迁移率、光照稳定性及非晶硅大面积低成本制备的优点,在薄膜太阳能电池、薄膜晶体管(TFT)以及微电子集......
学位
电子束蒸发
Ge诱导
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退火
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