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D-UHVVCD相关论文
D-UHV/VCD系统中SiGe薄膜的低温生长(英文)
生长温度对SiGe合金的性能有重要影响.在双腔超高真空化学气相淀积生长中,通常采用液氮冷却的方法.该生长模式下,通入乙硅烷时腔内......
期刊
D-UHV/VCD
SiGe
超高真空
化学气相淀积
生长模式
乙硅烷
低温生长
X射线双晶衍射
双晶
薄膜
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