CVD沉积相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

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用ECR等离子体CVD沉积的氮化硅膜特性

本文研究了用电子回旋共振(ECR)等离子体化学气相沉积(CVD)的氮化硅膜的性能与沉积条件之间的相互关系。通过控制流比(SiH_4/N_2)......

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氮化硅薄膜电子回旋共振 CVD沉积

热场对雾化裂解CVD沉积的薄膜厚度均匀性的影响

本文利用计算机程序简单模拟了圆盘状加热器和圆筒状加热器的热场分布,研究了热场对雾化裂解CVD法生长的半导体薄膜厚度均匀性的影......

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热场雾化裂解 CVD沉积半导体薄膜厚度均匀性加热器 thin film nebulized pyrolysis hot zone thickne

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