高K栅介质层相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

高K栅介质层相关论文

外延CeO2高k栅介质层的结构及介电性能

利用脉冲激光沉积两步生长法在Si（111）衬底上制备了厚度为10～40nm的外延CeO2薄膜，构建了Pt／CeO2／SiMOS结构，研究了CeO2薄膜的界面及介电性......

期刊

硅衬底外延CeO2薄膜高k栅介质层介电性能 epitaxial growth CeO2 films on Si substrate high-k gate

高k栅介质层MOS电容式硅基电光调制器的研究与设计

硅材料在地球上分布广泛,成本低廉,对光通讯波段的光吸收小,同时它作为微电子领域的传统材料,具有加工工艺成熟,易于集成等诸多优......

学位

硅基调制器电光调制器等离子色散效应 MOS电容高K栅介质层

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