靶电流相关论文
类金刚石（DLC）薄膜具有高硬度、良好的化学稳定性、低摩擦系数等一系列优点而受到广泛关注。但由于制备技术的限制,导致薄膜存在内应......
为了沉积高质量的硬质薄膜,避免直流反应溅射出现的靶中毒和打火现象影响薄膜质量和色彩。采用中频反应磁控技术在不锈钢基体上沉......
目前,电弧离子镀技术已发展成为薄膜技术领域中的一项重要的技术类别。电弧离子镀有提高靶材离化率、靶材离子动能以及薄膜沉积速......
采用多弧离子镀技术在 40Cr 基体上制备 TiAlN/TiN 复合膜层,通过金相显微镜、扫描电镜和显微硬度仪研究靶电流对膜层表面形貌、沉......
利用磁控溅射的方法成功制备Ti掺杂类石墨碳(Ti-GLC)膜.采用拉曼光谱、X射线光电子谱(ⅪS)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(A......
采用磁控溅射镀膜技术制备涤纶织物薄膜,探讨靶电流对Cu、Ti、Ss薄膜织物的各项色牢度的影响,比较了3种薄膜织物的色牢度。结果表......
用非平衡磁控溅射离子镀技术制备含铬类石墨镀层，研究了石墨靶电流对磁控溅射法制备类石墨镀层摩擦性能的影响。通过扫描电镜、原子......
用多弧离子镀技术在3Cr13不锈钢表面沉积TiN薄膜,用扫描电子显微镜和可见光分光光度计研究了大颗粒、氮气流量与靶电流对膜层颜色......
近年来,高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)以其较高的溅射材料离化率已经成为真空镀膜领域的研究热点,并不断的被应用在硬质涂层、光......
为了探索电弧离子镀技术制备银薄膜中相关的工艺参数，利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃和硅片上制备了银膜，通过白光干涉仪和剥离实验对......
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)因其较高的把材原子离化率和优异的薄膜成形性能,逐渐成为PVD领域的热点镀膜技术。把材原子的高度离化......
选择具有不同溅射产额的靶材料(Cu,Cr,Mo,Ti,V和C),研究了其高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)放电靶电流波形随靶电压的演化行为.发现所......
独立设计研制了新型两段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,本电源具备3种工作模式:(1)传统高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电模式......
期刊
探索具有优良摩擦学性能的BCx薄膜的制备方法具有重要意义,文中采用闭合场非平衡磁控溅射碳化硼靶和石墨靶(纯度均为99.9%)的方法,......
磁控溅射技术在薄膜制备领域的应用十分广泛,而溅射靶电流的稳定性极大的影响溅射镀膜的膜层质量。本文对于工业用巨型磁控溅射靶......
传统纺织印染行业在染色加工过程中会对环境造成严重污染,其中最主要的是废水污染。为了解决这个问题,一些新型的染色方法相继出现......
钛合金具有高的比强度和比模量,优良的耐蚀性能等优点,广泛应用于航天航空、电子、化工等领域。但其耐磨性差、摩擦系数高、抗氧化......
本文利用多弧离子镀(Arc ion plating，AIP)技术在高速钢和硬质合金基体上制备了不同C2H2流量和Ti靶电流的Ti(C,N)、TiAlCN梯度多层......
本文阐述了多弧离子镀技术的原理﹑特点﹑应用及发展现状，并对TiN﹑CrN﹑TiCrN薄膜进行了综述。采用自制XH800型多弧离子镀设备在YG6硬质合......
