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ZnO具有3.37 eV的直接带隙和60 meV的激子束缚能,被认为是优异的制备紫外发光器件的半导体材料。近十年来,基于ZnO的紫外发光器件被......
分别采用直流反应溅射法和脉冲激光沉积法在硅衬底上沉积ZnO薄膜,用X射线衍射、扫描电镜、光致发光谱等手段对两种方法沉积的ZnO薄......