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阻挡层抛光液相关论文
GLSI多层铜互连阻挡层低粗糙度的研究
因为市场的持续进步,集成电路(IC)作为半导体工业的焦点,其工艺复杂性也越来越高。在技术节点已经进入3 nm节点的现在,国际对IC中晶......
学位
集成电路
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复合络合剂
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GLSI多层铜布线阻挡层CMP及其后清洗表面粗糙度的研究
随着集成电路技术的迅猛发展和进步,芯片的集成度越来越高,特征尺寸逐渐减小,线宽也越来越窄,对集成电路性能的要求越来越高,如提......
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集成电路
化学机械抛光
阻挡层抛光液
清洗液
表面粗糙度
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