钒膜相关论文
为了获得新型HiPIMS稳定放电及制备优质膜层时的最优外部磁场参数,研究外部磁场变化对电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射((E-MF)H......
基于辅助阳极的电场增强高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术改善了常规HiPIMS放电及镀膜过程.研究工作参数对电场增强HiPIMS的调制作......
为了使高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术在保持高离化率的条件下实现HiPIMS高速沉积过程,采用电场与磁场双外场协同作用改善HiPIMS......
目的 研究不同靶基距对高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）在凹槽表面制备钒膜微观结构和膜厚均匀性的影响,实现凹槽表面高膜层致密性和均匀......
高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)作为一门新兴的电离化物理气相沉积技术已成为国内外研究热点。相比传统直流磁控溅射,HIPIMS放电......
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