空心阴极离子镀相关论文
利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜;电子探针分析结果表......
采用磁控溅射和离子镀膜工艺在Mo基片上制备了具有不同晶粒尺寸的纯Ti薄膜 ,并利用X光衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM )和扫描电镜 (SE......
为研究多元Ti(CN) 膜层,用空心阴极离子镀方法,通入不同比例C2H2和N2反应气体,以研究反应气体流量变化对膜层性能的影响,筛选出C2H......
介绍了空心阴极离子镀(HCD)膜层增厚技术,提出了连续投料方法和其它工艺措施,解决了(HCD)镀厚膜的技术难题,使膜层厚度从2～3μm增加......
硬质薄膜材料可以广泛应用于机械制造、汽车工业、纺织工业、地质钻探、模具工业、航空航天等领域。在实际的工业应用中,硬度是诸......
氧化锌(ZnO)作为宽禁带Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,因其室温下高达60meV的激子束缚能而具有优良的光电性能,并受到了人们的广泛关注。ZnO在......
