离子束辅助蒸发相关论文
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该文讨论了目前国内普遍采用的真空蒸镀法的优缺点,指出由真空蒸镀法所镀制的光学薄膜其性能不稳定的主要原因是微观柱状结构所致,若......
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介绍了一种新型离子源--霍尔无栅离子源,并论述了其工作原理.这种源不仅具有大束流、低能量和大辐照面积等优点,而且克服了现有的......
本文介绍了用于电子元器件镀膜的两种新的镀膜技术:离子束辅助蒸发镀膜及非平衡磁控溅射镀膜。......