碳氮膜相关论文
该文采用磁控溅射（Magnetron Sputtering)技术尝试在单晶Si样品表面沉积制备碳氮薄膜,研究了薄膜的结构特征、性能与制备工艺参数之......
β-C3N4是Cohen等人从理论上预言的一种可能比金刚石更硬的物质,含有β-C3N4的碳氮膜具有优异的电学、光学和机械特性,在很多领域......
用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了碳氮膜(CNx),膜层厚度约80 nm.采用Ar/N2等离子体溅射纯石......
期刊
通过用碳氮膜涂层刀具对含硅量不同的硅铝合金进行干切削试验，研究了氮化碳涂层刀具的切削性能。......
用碳氮膜涂层刀具对硅铝合金棒进行了干式切削试验,通过对加工表面粗糙度和刀具耐用度的研究,探讨其切削性能。......
简要回顾了碳氮膜的发展历史，综述了碳氮膜研究的最新进展，并对这类膜的发展前景进行了展望。......
采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（PCVD）法间歇生长模式，在（100）硅片上、CH4＋N2＋H2气氛下生长了氮化碳薄膜。薄膜样品用XRD、SEM和Rama......
以氮气为反应气体，用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜，对工艺参数对膜层的沉积速率，化学成份的影响及膜结合状态进行了研究，结果表明，沉......
用射频直流磁控溅射法在硅、石英基片上制备碳氮膜;采用傅里叶变换红外光谱(FTIR)技术,对基片上的碳氮膜进行红外光吸收谱测量,发......
用封闭式电子回旋共振（MCECR）等离子体溅射的方法在硅（100）基片上沉积了碳氮膜（CNx），膜层厚度约80nm．采用Ar／N2等离子体溅射纯石墨靶，研究了......
CVD和PVD TiN,TiC,TiCN,TiAIN等硬质薄膜涂层材料已经在工具、模具、装饰等行业得到日益广泛的应用,但仍然不能满足许多难加工材料......
