激光直写光刻相关论文
激光热刻蚀直写光刻技术是近年来发展起来的制备微纳图形结构的新技术，在光、电元器件制备、信息工业等领域具有重要应用前景。本文......
介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等.论述了利用CVD制作AWG所需SiO2光波导的化学过程及其......
精密和智能制造技术一直是推动国民经济向高端发展的重要源动力。从设备、材料、工艺等方面,实现对各种形状和尺寸的零件的快速、......
在兼顾胶层的光吸收特性、直写光束的高斯分布特征以及直写光束与胶层相对运动的情况下，建立了直角坐标激光直写的动态曝光模型以有......
介绍了利用激光直写光刻技术在200mm×200mm基片上制作线宽为5μm,周期为350μm的红外透明导电金属网栅的工艺过程,对激光直写......
针对目前在球面基底上制作微透镜阵列工艺复杂,制作成本昂贵等问题,介绍了一种激光直写光刻和光刻胶热熔成型相结合的新的加工技术......
采用理论计算和光线追迹分析了激光直写光刻中离焦对写入焦斑光场分布的影响;使用四轴激光直写设备开展了离焦激光直写光刻工艺实......
考虑了光刻胶对光吸收作用，在已有描述胶层内光场分布模型的基础上，较为准确地推导出光刻胶层内不同深度位置的光场分布．使用迭代方法......
