漏功耗相关论文
在无线通信系统中,随着集成电路特征尺寸的不断缩小,芯片漏功耗急剧增大,漏功耗减小技术已成为低功耗无线通信系统设计技术的焦点......
比较分析了8管SRAM单元在不同双阈值组合情形下的性能,为不同需求的设计者提供了在静态噪声容限(SNM)、漏功耗和延迟之间做出合理......
提出了一种基于小波神经网络,估计双阈值多米诺或门的漏功耗和速度,随着扇入的增加,非线性变化的系统方法.分析表明,此方法估计误......
随着超大规模集成电路设计复杂度日益增加,工艺参数变动对电路性能(如速度和功耗)的影响越来越大.文中建立了一个层次化电路时延和......
在纳米级工艺逐年减小而芯片集成度提高的发展趋势下,集成电路的功耗问题越来越引起设计者的关注。本学位论文选取图像与语音等数......
学位
随着工艺的进步，集成电路最小特征尺寸的缩小以及集成度的不断提高，漏功耗已经成为集成电路设计领域最严峻的挑战。当工艺尺寸进入深......
随着集成电路的迅速发展,CMOS超大规模集成电路(VLSI)设计工艺已进入纳米尺度,纳米MOS器件阈值电压的缩小使得芯片的漏电流呈指数......
随着集成电路工艺的迅猛发展,芯片的规模不断扩大,从而功耗也越来越大。设计者们关注的热点开始从以往的如何提高芯片工作速度及节......
随着集成电路的发展,集成电路的规模越来越大,集成度越来越高,大规模集成电路的性能决定着电子设备的性能。目前,移动终端电子设备......
半导体生产工艺的不断进步，使得最小工艺尺寸越来越小，进而引起漏功耗不断增大。自0.13μm工艺开始，漏功耗在电路总功耗中所占的比例......
现代主流的集成电路的工艺特征尺寸已经进入了纳米时代,一般的片上系统SoC芯片的晶体管数目都已经超过千万门级,同时芯片的工作时......
随着集成电路工艺的快速发展,芯片规模在不断扩大,导致芯片功耗的持续增大,低功耗设计已成为集成电路的重要研究方向。特别是随着......
1965年,Intel公司的创始人之一Gordon E. Moore预言集成电路产业的发展规律:集成电路的密度每三年增长四倍,特征尺寸每三年缩小(?)......
