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用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了掺镧钛酸铅(PLT)铁电薄膜.研究了不同退火工艺对PLT薄膜结构的影响.发现在PbO气氛下退火能......
采用射频磁控溅射技术在Pt／Ti／SiO2／Si（100）基底上生长了掺镧钛酸铅[（Pb0.9Ld0.1）TiO3，PLT10]铁电薄膜。用X射线衍射研究了PLT10薄膜的结晶......
采用射频磁控溅射技术在Si（100）基底和Pt／Ti／SiO2／Si（100）基底上生长了掺镧钛酸铅[（Pb0.9，La0.1）TiO3，PLT]铁电薄膜。用X射线衍射技术（XRD）研究......
采用射频磁控溅射技术。使用相同的工艺条件在Si（100）基底和Pt／Ti／SiO2／Si（100）基底上生长了掺镧钛酸铅[（Pb0.9,La0.1）Tio3，PLT10]铁电薄膜。......
