抛光温度相关论文
Influence of temperature on chemical mechanical polishing removal rate of sapphire substrate for GaN
化学机械抛光技术可用于生产高质量的加工表面。在蓝宝石衬底CMP过程中高的抛光速率及好的表面质量是最终的目标。在抛光液及抛光......
为了建立抛光后表面残余应力的数学模型,通过实验测量了百叶轮抛光航空发动机叶片过程的抛光力和抛光温度,并根据抛光力的持续时间......
材料去除的时不变性是计算机控制光学修形的基础.为了提升沥青盘数控抛光的材料去除稳定性,采用抛光液喷淋添加方式进行光学零件沥......
分析了非掺锑化镓单晶片的化学抛光机制和影响获得表面质量良好的非掺锑化镓单晶片的因素，得到了非掺锑化镓的抛光工艺参数。利用该......
为了改善工件表面的抛光效果，解决传统机械抛光对抛光工件几何形状的限制，提高实际工程中对工件的抛光效率，本文介绍了一种全新的抛光......
对纯镍化学抛光方法中抛光剂的组成、抛光温度和抛光时间进行了研究.结果表明:用正交试验方法确定金属的抛光配方可行,此方法可以......
磨粒流抛光作为一项精密加工技术,其抛光温度对工件质量的影响在宏观尺度和微观尺度上已有较多的研究,而在介观尺度内的模拟仍很少......
