干蚀刻相关论文
随着光电子技术和精密加工技术的快速发展,光电子元件的尺寸也越来越小,在制作这些元件的技术中,电子束刻蚀作为制备光子晶体最为......
据日本专利JP2015052032介绍，即使在高浓度淀粉中，此O形圈表面也不会产生白色异物，同时其具有极高的耐热性，能用于干蚀刻设备中。该。......
日本Disco公司日前开发出了一种新型生产设备，可利用等离子干蚀刻，减轻超薄晶圆时产生的应力。在IC卡等产品上封装芯片时，即使受到外......
集成电路的制造需要在晶圆上做出极细微尺寸的图案(Pattern).而这些图案最主要的形成方式,乃是使用蚀刻(Etching)技术,将微影(Lith......
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在蚀刻时会形成等离子体的蚀刻气体,他会蚀刻未受保护的区域。一旦检测到这一区域被刻蚀完成时,蚀刻反应马上被停止。这种停止刻蚀......
目前,三氟化氯正被研究作为一种半导体干气体蚀刻剂。这是因为它有很高的蚀刻速率和选择性。由于这种气体刚用于电子工业,故本文将......
