干法蚀刻相关论文
该文主要介绍了LED用蓝宝石图形化衬底的基础知识。图形化衬底可分为湿法蚀刻(WPSS)和干法蚀刻(DPSS)两种，其基本的制作原理。两种......
阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。应用正交实验,进行了蚀刻速率、均匀性、选择比等主要蚀刻参数的优化,得出主要工......
文章阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。应用正交实验,优化了蚀刻速率、均匀性、选择比等主要蚀刻参数,得出主要工艺......
对于制造集成电路芯片的多片生产设备而言,圆片间均匀性是评价工艺优劣的重要指标,可以利用正交试验方法来优化均匀性工艺。使用装......
文中主要介绍了等离子干法蚀刻工艺的原理和主要的蚀刻参数。采用正交实验的方式,对影响蚀刻速率、蚀刻均匀性以及选择比的蚀刻参......
随着移动终端的大量普及,存储器市场需求得到大幅度提升。NAND Flash以其大容量和体积小的优点,在目前的存储器市场占据着越来越重......
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提出一种微透镜阵列复制的新方法反应离子束蚀刻法（ＲＩＢＥ）。它在工作原理和参数控制等方面较传统的蚀刻方法有很大的先进性，能够实现蚀刻过......
