套刻误差相关论文
在线测量检测技术与装备是保证集成电路（IC）制造质量和良率的唯一有效技术手段，在IC制造过程中必须对IC纳米结构的关键尺寸、套刻误差......
随着半导体制造节点的不断缩小,如何精确地测量套刻误差变得十分重要。为了检测光刻层之间的套准质量,通常会在半导体器件的划线槽......
大口径高分辨率空间光学系统是世界上的热点研究领域。与欧美国家相比,我国在薄膜衍射元件的制作工艺方面还处于起步阶段,距离国外......
用逐层分析法就八台阶二元器件套刻误差对器件衍射效率的影响进行了详细的分析和讨论，给出简便，关用的计算和分析方法。......
本文讨论了套刻误差的组成及误差模型的建立，并介绍了套刻误差的表示方法。套刻误差教学模型对于光刻机整机套刻精度的估计、对于光......
为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的......
探讨14 nm工艺生产过程中,在光刻晶圆对准时遇到的异常问题及其解决方案。通过预对准温控单元TSU与14 nm产品晶圆高度的有效控制,......
